G10

[Ordering Information] Cat. # 제 품 명   G10 G10 Ion Sputter Coater 견적요청   [주요 특징] 전도성이 없는 시료 및 전도성이 약한 시료의 표면에 플라즈마를 생성하여 금속박막을 형성 - 전자현미경 분석 시 필수적으로 거쳐야 하는   전처리 장비 버튼 하나로 모든 코팅작업 자동화 시작부터 코팅까지 총 2분 이내 작업완료 3단계 코팅조건 설정 Mode 1. Low: 20초 (Coating 두께 ±30nm, Au target) Mode 2. Medium: 40초 (Coating 두께 ±60nm, Au target) Mode 3. High: 60초 (Coating 두께 ±90nm, Au target) 설치부터 교육까지 10분 이면 충분 Compact 한 제품 Size 로 설치공간 최소화

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Ion Sputter Coater G10

[SPECIFICATION]
Technical Data	G10
Degree of Vacuum	2.0 x 10-1tor
Ion Current	38 mA (fixed)
Target Material	Au or Pt
Chamber size	Φ140mm(D) x 70mm(H)
Sample Stage	Φ50mm(D) x 25mm(H)
Target Size	Φ50mm(D)
Sputter Time	20 sec / 40 sec / 60 sec (3 steps)
Vacuum Pump	100L/min, Rotary Pump(without)
Dimensions (W x D x H)	380(W )x 240(D) x 235(H)mm, 10 kg